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臺式勻膠機采用先進的設計理念，與精確的運動控制系統配合，實現高精度、均勻的均質操作。它配有溫度控制系統，具有良好的溫度控制均勻性。可實現加熱時均化功能。操作界面可存儲10組程序，每組程序可達到10個步驟。速度和旋轉時間等操作參數可以實時顯示。臺式勻膠機使用時的注意事項：1、請使用機身的電源；2、防止電源線壓在機器底部，以免損壞電源線造成觸電；3、每次啟動前，注意抬起“控制”和“吸入”鍵，防止電機在未啟動時旋轉；4、不同的板材應選擇不同規格的不同板材夾持器。板材不得小于板材夾持...

實驗室涂膜機用于鋰離子電池正負極板的連續涂布工藝，適用于大學和企業的小型實驗；也可用于陶瓷膜、晶體膜、特殊納米膜等；機身由不銹鋼制成，美觀耐用。表面噴塑，操作方便。實驗室涂膜機的主要特點：1、涂層電機為永磁低速同步電機；2、滾珠絲杠和直線導軌僅從中國臺灣進口；3、涂膜器刮板由SUS316L不銹鋼制成；4、膠片速度可在0~100mm/s范圍內調節，數字顯示；5、溫度控制器采用PID智能LID數顯表；6、真空鋁盤，可快速放置或取出極片。實驗室涂膜機的使用方法：1、確認前兩步后，插...

勻膠機旋涂儀主要用于微加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中的光刻、烘焙和其他設備，如硅芯片和陶瓷芯片上的均化膠。均勻膠旋涂儀器價格低廉，操作簡單，結構緊湊，占地面積小，為實驗室提供了理想的解決方案。它可以在很大程度上確保均勻的旋涂；可以旋涂不同尺寸的基材。勻膠機旋涂儀通過在片材保持器上產生負壓來吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過精確調節電機的轉速而改變。同時，膠水流由滴膠裝置控制，以達到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環境因素，如...

紫外清洗機不需要任何溶劑，也不會損壞清潔表面。去除大多數無機基板中的有機污染物。該清洗機提供了一種高效、精確的清洗方法，也是一種非常重要的表面改性技術。應用于表面處理、有機清洗、提高表面親水性、降低表面接觸角、增加表面附著力、增強表面功函數等。紫外清洗機的工作原理：通過產生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短...

實驗室等離子清洗機是一項新的高科技技術，它使用等離子來達到傳統清洗方法無法達到的效果。等離子清洗機應用廣泛。接下來就給大家介紹一下實驗室等離子清洗機的優勢有哪些？實驗室等離子清洗機的設備優勢：1、等離子體清洗后，清洗對象干燥，無需進一步干燥即可進入下一工序。可以提高整個工藝管線的處理效率；2、等離子清洗使用戶避免了有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗時清洗物易清洗的問題；3、避免使用有害的ODS溶劑，如三氯乙烷，以免清洗后產生有害污染物。因此，這種清潔方法是一種環保的綠...

紫外清洗機通常用于掃描探針顯微鏡的樣品應用。可用于原子力顯微鏡探頭、掃描探針顯微鏡標準探頭、表面常規油層及殘留無機材料的清洗。它還可用于改變物體表面的疏水性，這有利于零件和表面的化學改性。紫外清洗機的保養要點：1、使用紫外線滅菌器的最佳條件水溫：5℃-50℃；相對溫度：不超過93%；電壓：220±10v50hz；進入處理設備的飲用水水質具有95%-100%的透射率。如果待處理水質低于國家標準，如色度高于15度，濁度高于5度，鐵含量高于0.3mg/L，應先采用其他...

勻膠機旋涂儀廣泛應用于MEMS微加工、生物、材料等領域。它可用于制備厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度約為1-100微米的光刻膠沉積層的光刻工藝中。許多平面基板材料可用于涂層，如半導體硅片、載玻片、晶片、基板、ITO導電玻璃等。勻膠機旋涂儀的工作原理：通過在晶片支架上產生負壓，待旋涂的基材吸附在晶片架上，膠水滴在基材表面。通過精確調節電機的轉速來改變離心力。同時，滴膠裝置控制膠水的流速，以達到制備薄膜所需的厚度。此外，涂膜厚度還取決于旋涂時間、膠液粘度、涂膜溫度和濕度等環...